科技的发展在更大程度上制约了我国一些整体的提升。我们的一些开发本身就比较晚。为了能够有一些更好的结果，在各个方面都会有更多的研发。

　　但其实还是需要时间的，尤其是在一些技术领域，有开发经验很重要。虽然我们长期研发在芯片技术的领先发展上，但是在之前的发展过程中，我们都是采用与技术能力比较强的国家合作的模式。

　　但现在由于国内的一些问题，这种技术合作也暂停了，更多的拖延开发目标的重担落在了中国科研人员的肩上。

　　为了在这个领域有更多的发展，也整合了很多的力量。我国上海微电子技术公司的光刻机又取得突破。他们开发了一台22纳米的光刻机。一冠雕刻机的研制成功打破了西方国家的技术垄断。

　　如果按照一些传统的光刻机来制造的话，其实很多技术我们是很难突破的，所以他们另辟蹊径，选择了用紫外光源来制造光刻机。也证明这样的技术更有效。

　　并且通过这次技术突破，我们也研发和实践了我国22nm芯片的制造工艺。通过这方面的经验，国产光刻机有了更多的思路。由于紫外线的突破，中科院也觉得要研发5nm超高精度激光直写光刻加工技术。

　　为了有一些更高的突破，在技术上有各种高精度和低精度的对比，在光刻机的材料上也有很多尝试，经过多次研究和实验。也有了更好的突破，现在已经实现了5nm的超高精度光刻技术。

　　另外，我们还可以使用更多的材料来制造芯片，这意味着我们可以更大程度的降低成本，拓展一些市场的应用。

　　这样的成绩，俄罗斯媒体也直接报道了。上海微电子22nm光刻机的研制，也让其他国家看到了我们发展的可能性。现在我们在芯片技术上有了一些更高层次的突破，相信未来的发展会更好。